Los procesadores Intel a 7 nm mediante EUVL están en camino según lo previsto

Intel ha confirmado que no se saltarán los 10 nm y que han avanzado de buena manera en sus 7 nm mediante procesos EUVL, estando ya en camino los 7 nm.

Son continuos los retrasos que Intel ha sufrido para seguir el roadmap establecido hace unos años en cuanto a la producción de procesadores. Dos meses atrás veíamos cómo Intel reestructuraba sus grupos de trabajo para continuar más eficientemente el desarrollo de los 10 nm. Ahora, desde la empresa han confirmado que, a pesar de lo que se temía, continuarán con el proceso de 10 nm DUVL (Deep Ultra Violet Litography) y con el de 7 nm EUVL (Extreme Ultra Violet Litography) por separado. Se llegó a pensar que Intel descartaría su proceso de 10 nm por completo, pero finalmente no resulta ser así, e incluso desde Intel afirman que para los 7 nm ya llevan buena parte del trabajo hecho y que han aprendido de los obstáculos presentados en los 10 nm.

Parte de los problemas que han tenido que solventar para continuar con el desarrollo de 7 nm se sitúan en la densidad de transistores que ello conlleva. Desde Intel aseguran que el tiempo necesario para desarrollarlo adecuadamente ha sido más de lo habitual, ya que se propusieron aumentar la densidad de transistores de manera drástica, y parece que han podido con ello. Por otro lado, para el el proceso de 10 nm se está utilizando, como decíamos, tecnología DUVL, mientras que para los 7 nm se optará por EUVL. La diferencia entre ambos es, a gran escala, que el primero utiliza láser a 193 nm, mientras que el segundo baja hasta los 13.5 nm para capas seleccionadas, lo que abrirá a Intel el camino a los 5 nm también.

Mientras tanto, los 7 nm de Intel siguen su curso establecido y no hay más retrasos de momento, lo que implica que, de continuar así, veríamos procesadores Intel a 7 mm para 2020-21.

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