Micron dará el salto a la litografía EUV para la fabricación de sus chips de DRAM

La tecnología de litografía EUV (ultravioleta extremo) se lleva utilizando ya un tiempo para la fabricación de chips de alto rendimiento como CPUs o GPUs de tarjetas gráficas, ASML es el principal fabricante de los equipos utilizados por compañías como TSMC, Samsung o Intel para la creación de las obleas con estos chips.

Sin embargo, la tecnología EUV no es tan popular en otro tipo de chips como los de memoria DRAM, pero pronto podría cambiar, ya que Micron, uno de los principales fabricantes de memorias del mundo, ha anunciado que actualizarán sus instalaciones de Taiwán con máquinas para la fabricación de chips con litografía EUV.

Micron utilizará estas máquinas para su nodo de fabricación 1-gamma, un proceso pensado de cara al futuro y con el que la compañía comenzará ahora las primeras pruebas. Por tanto, por el momento no se espera la fabricación en masa de chips EUV de memoria RAM en las instalaciones deMicron

Actualmente, Micron utiliza su nodo 1-alpha basado en la litografía DUV (Ultravioleta profundo), y parece que al menos un par de generaciones mantendrán esta tecnología.

Es de esperar que la compañía vaya actualizando sus distintas fábricas en otros países a esta tecnología en el futuro, pero por el momento será la de Taiwán la que dará el salto para investigación y desarrollo.

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